专利名称：掩膜版及采用该掩膜版的掩膜装置专利类型：发明专利发明人：叶剑
申请号：CN201811511453.5申请日：20181211公开号：CN109487206A公开日：20190319
摘要：本发明提供一种掩膜版及采用该掩膜版的掩膜装置，本发明的优点在于，将现有的掩膜版两端的缓冲区也设置为有效蒸镀区，利用该区域制作像素密度较低的Mini显示面板，使得该区域在作为掩膜版的变形缓冲区的同时，还作为低像素密度的显示面板的开口的有效区，可以有效提高掩膜版的利用效率。
申请人：武汉华星光电半导体显示技术有限公司
地址：430079 湖北省武汉市东湖新技术开发区高新大道666号光谷生物创新园C5栋305室
国籍：CN
代理机构：深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙)
代理人：黄威
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