简述半导体纯水设备的工艺及技术优势
超纯水设备是可以完全去除水中的导电介质，以可以将水中的有机物质、不溶解的胶体物质和其化杂质去除的高性能水处理设备。在半导体材料、蓄电池、线路板等电子行业应用的非常广泛。本文将主要介绍半导体超纯水设备工艺流程、技术优势与维护清洗。
半导体超纯水设备工艺流程
半导体超纯水设备由反渗透设备与EDI设备相结合，是一种环保、经济、发展潜力巨大的最新超纯水制备工艺。
纯净水设备工艺流程为：原水→多介质过滤器→活性炭过滤器→精密过滤器→中间水箱→反渗透设备→电去离子(EDI→超纯水箱→超纯水泵→后置保安过滤器→用水点 半导体超纯水设备各系统技术优势
我公司的半导体超纯水设备符合国家标准水质要求，能满足客户的不同需求。
1、介质过滤器：由优质不锈钢材料制作而成，可去除源水中的悬浮物。设备设有气体冲刷功能，能最大限度地清除介质上及床层中的污垢，提高出水水质和延长工作周期。
2、活性碳过滤器：由优质不锈钢材料制作而成，可以去除水中的游离余氯、除臭、除油、去色、吸附有机物杂质，保证反渗透膜的进水水质。
3、RO主机：采用先进的反渗透技术，利用压力差原理去除水中的盐类，设备的脱盐率可达到99%左右。
4、水质：水质符合美国ASTM标准，电子部超纯水水质标准(18MΩ*cm,15MΩ*cm,2MΩ*cm和0.5MΩ*cm四级。 5、材质：主要有不锈钢、炭钢和有机玻璃钢。 6、流量(m3/h：0.1-500.
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