（12）发明专利申请
（21）申请号 CN200980121613.8 （22）申请日 2009.04.22 （71）申请人 夏普株式会社
地址 日本大阪府
（10）申请公布号 CN102057331A
（43）申请公布日 2011.05.11
（72）发明人 春原英明
（74）专利代理机构 北京市隆安律师事务所
代理人 权鲜枝
（51）Int.CI
G03F7/20; G01B11/00; G03F9/00;
权利要求说明书 说明书 幅图
（54）发明名称
曝光装置和曝光方法
（57）摘要
提供一种即使基板在其面内不均匀地变形
的情况下，也可以精度良好地进行各光学系统曝光的区域的位置对准的曝光装置和曝光方法。在可以对作为曝光对象物的基板(5)进行曝光的步进扫描方式的扫描型曝光装置(1)中，具备可以检测形成于上述基板(5)的表面的对准标记(52)的多个
标记检测系统(20)以及可以分别对规定的投影区域(F1～F7)照射光能的多个投影光学系统(15)，上述标记检测系统(20)配设在相邻的上述投影光学系统(15)彼此之间以及上述多个投影光学系统(15)的两端。
法律状态
法律状态公告日
2011-05-11 2011-06-29 2013-12-04
法律状态信息
公开
实质审查的生效
发明专利申请公布后的视为撤回
法律状态
公开
实质审查的生效
发明专利申请公布后的视为撤回
权利要求说明书
曝光装置和曝光方法的权利要求说明书内容是....请下载后查看
说明书
曝光装置和曝光方法的说明书内容是....请下载后查看
因篇幅问题不能全部显示，请点此查看更多更全内容